En la atmósfera, tan pronto como la llama del plasma salga de la boca, una gran cantidad de aire se extrae adentro de los alrededores. Cuando la distancia del espray es 100m m, la toma de aire puede explicar más el de 90% del plasma. En el proceso de rociadura atmosférico de plasma, el polvo de metal se oxida seriamente. Además, algunas sustancias tóxicas (tales como berilio y óxido del berilio) no se pueden rociar en la atmósfera. Para solucionar los problemas antedichos, la rociadura de plasma de baja presión se ha propuesto. La rociadura de plasma del vacío, también conocida como rociadura de plasma de baja presión, es rociadura de plasma (tecnología de rociadura en un ambiente controlado) en un espacio cerrado con un vacío bajo debajo de la presión atmosférica.
La tecnología de rociadura ambiental controlable toma a nuestra comprensión de la rociadura de plasma una medida adelante. Actúe el arma de espray en la cabina de espray para guardar el ambiente bajo control total. Las características de la capa produjeron de esta manera son imposibles de producir en un ambiente atmosférico estándar. El ambiente se puede cambiar en el rango cerca de vacío (como bajo como mPa 50) y de la presión creciente (PA hasta 4). El elegir rociar en la cabina de espray puede prevenir la contaminación de la pintura y/o del substrato, o porque el material del espray necesita reaccionar con ciertas sustancias añadidas.
El principio de rociadura de plasma controlable de la atmósfera es colocar el arma de espray del plasma en una cabina sellada y actuarlo por un manipulante. El bombeo de la cabina a un estado de vacío es rociadura de plasma del vacío (VPS). Cuando la cabina está en un estado de la presión baja, se convierte en rociadura de plasma del vacío de la presión baja (LPPS). La atmósfera de la sala de máquinas puede ser la atmósfera inerte o la otra atmósfera protectora. Debido a la presión baja del ambiente o de la atmósfera controlable, el flujo de la llama del plasma se convierte más de largo, las partículas se calientan más completamente, se reduce la oxidación, y la calidad de capa se mejora perceptiblemente. Puede ser utilizada para preparar las películas del diamante y las capas depositadas del óxido del superconductor.
La capa producida por este proceso tiene muchas ventajas. La capa tiene buena compacticidad, adherencia fuerte, no será contaminada, y no hay óxido en la capa de metal. Capas de cerámica y las otras nas-metálico rociaron en una cabina de espray llenada de una atmósfera no-reactiva tienen pureza elevada. Por otra parte, el uso de las capas de metal de fusión elevada del punto tales como tungsteno es también muy acertado. Desde la distancia entre el arma de espray y el objeto no es tan importante como en condiciones de rociadura atmosféricas, el control de componentes llega a ser simple. Debido al perfil uniforme del penacho del plasma, el “diámetro del punto focal” puede ser grande, así que el tiempo del proceso de rociadura puede ser acortado grandemente. Además, la ausencia de enfriamiento atmosférico de las partículas de capa significa que el proceso de curado de capa es relativamente lento. La capa del plasma de la presión atmosférica no tiene casi ninguna capa intermediaria “escamas”, y la estructura cristalina de la capa está cercana a la del material de lanzamiento.
En un ambiente bajo del vacío, puesto que el jet no-transferido del arco de plasma llega a ser más grueso y alargado, ha entrado en contacto con ya la superficie del objeto para formar un canal conductor, así que el arco de la transferencia se puede sobreponer en él. El arco de la transferencia se utiliza para farfullar la superficie del objeto, quitar la capa y la contaminación superficiales del óxido, y puede calentar el objeto a una temperatura más alta, para combinar en la superficie lisa y esté difundida la capa en el interfaz, de tal modo mejorando la fuerza de enlace. El grueso de la capa puede también ser ilimitado. Al rociar en un cuarto cerrado, la contaminación del ruido y el polvo al ambiente también se soluciona por consiguiente.
Comparado con la rociadura de plasma atmosférica, la rociadura del ambiente del bajo-vacío tiene las características notables siguientes:
1. La velocidad y la temperatura del jet de plasma son perceptiblemente más altas que la de la rociadura de plasma de la presión atmosférica. Cuanto más baja es la presión, más alta es la velocidad del jet y temperatura.
2. La época de residencia del polvo en la zona da alta temperatura del jet de plasma se aumenta, la calefacción es más uniforme, y la velocidad que vuela es más rápida.
3. La temperatura de precalentamiento de la superficie del substrato puede ser aumentada grandemente; el substrato se puede también farfullar y limpiar con un arco reverso de la transferencia para quitar los óxidos y la suciedad, de tal modo mejorando la vinculación entre la capa y el substrato.
4. La superficie del polvo y del substrato totalmente evitar la oxidación, y las capas materiales del diverso metal activo puede ser preparada.
5. Debido a las razones antedichas, la fuerza de enlace de la capa se mejora grandemente, la porosidad se reduce grandemente, la tensión residual de la capa se reduce, y la calidad de la capa se mejora perceptiblemente.
6. El equipo de la rociadura de plasma del vacío es complicado y costoso, haciéndolo muy difícil promover y aplicarse.